校领导出席武汉纺织大学第171期学术沙龙

10月22日下午，武汉纺织大学第171期学术沙龙在阳光校区建全会堂全棉时代厅举行。本次论坛由微电子学院举办，特邀斯洛文尼亚Janez Kovač教授、德国吉森大学陆浩博士两位学者围绕光电薄膜材料及表面表征技术专题进行学术报告。副校长姜明华出席沙龙并致辞。德国吉森大学的研究生卡齐贝·巴登施泰特同学也受邀参加了活动。本次沙龙由微电子学院副院长（主持工作）何云斌主持。

姜明华在致辞中对来访的专家学者表示热烈欢迎，并介绍了学校办学特色、学科优势与国际合作基础，期待借本次沙龙深化电子信息相关领域在人才培养、科学研究等方面的国际交流合作。姜明华为Janez Kovač教授颁发了武汉纺织大学客座教授聘书。

报告中，Janez Kovač教授以《Application of XPS and SIMS analytical methods for chemical analyses of surfaces, thin films and multilayer structures》为题，系统介绍表面与界面分析技术及其应用。报告重点围绕X射线光电子能谱和二次离子质谱两种分析方法，讲解其在表面成分识别、化学态分析、深度剖析和二维成像等方面的原理与优势，并结合等离子体表面处理、氧化态识别、纺织材料功能化、半导体薄膜与界面研究、有机层分析及器件偏压条件下的元素分布等案例，展示相关技术在材料表面工程和微电子领域的应用前景。  

Janez Kovač教授作报告

陆浩博士以《Strain Engineering and Buffer Layer Design in VO2 Thin Film Structures: From Phase Transition Mechanisms to Smart Window Applications》为题，探讨VO₂薄膜中的应变工程与缓冲层设计。在TiO₂（110）衬底上的外延薄膜中，拉伸应变使相变温度相较应变弛豫薄膜最高升高30°C，而应变梯度使薄膜沿厚度方向逐步发生相变切换。面向热致变色应用，CuxTi1-xO2缓冲层可在300°C下实现VO₂的结晶生长，所构建的多层膜光学性能接近以金红石TiO₂为缓冲层的参考结构。同时讨论应变调控的相变行为，以及缓冲层选择如何影响智能窗涂层的光学性能。

陆浩博士作报告

学术沙龙合影

访问期间，来访专家学者还参观了学校纺织科技馆、分析测试中心和微电子学院科研实验室，对学校纺织文化底蕴、科技创新成果、多学科发展战略以及科研条件、科研队伍、科研氛围等进行了全面了解。

专家简介：Janez Kovač，2000年获得斯洛文尼亚马里博尔大学电子真空技术博士学位，现任斯洛文尼亚约瑟夫·斯特凡研究所高级研究员、表面与薄膜分析实验室主任，同时担任约瑟夫·斯特凡研究生院教授。1991年至1998年曾在意大利的里雅斯特Elettra同步辐射光源任研究员。2013年至2019年担任斯洛文尼亚真空学会会长，并任表面与界面分析应用领域多个国际委员会委员。2019年获斯洛文尼亚会议局授予“斯洛文尼亚会议大使”荣誉。

陆浩，现为德国李比希-吉森大学实验物理第一研究所博士后，2025年获该校物理学博士学位。硕士期间，他在何云斌教授课题组从事薄膜物理研究。其研究聚焦于功能氧化物薄膜、应变工程和相变材料，尤其面向热致变色智能窗应用。他在同行评议期刊发表论文9篇，包括Appl. Phys. Lett.、Nanoscale、Sol. Energy Mater. Sol. Cells等，并作为发明人参与5项中国专利。他曾任武汉高德红外MEMS研发工程师。目前研究聚焦于激光直写及功能微纳结构。